Метод PECVD используется для подложек, требующих при обработке более низкого суммарного уровня получаемой тепловой энергии. Плазма реагирующих газов формируется в электрическом поле (DC или ВЧ) для проведения реакции и нанесения пленки при пониженной температуре.
Система PECVD разработана и изготовлена для промышленного применения. Также доступны PECVD системы EasyTube® под торговой маркой FirstNano® оборудования для исследования и разработки. EasyTube® 2000 - система PECVD с небольшой площадью основания для размеров пластин до 4" и EasyTube® 3000 для пластин до 6".
Системы, работающие под управлением программного обеспечения CVDWinPrC™, автоматически регистрируют данные и графически отображают зависящие от времени значения, согласно выбранным пользователем параметрам. CVDWinPrC™ также предоставляет пользователям возможность загружать предварительно запрограммированные наборы команд, изменять, проверять и создавать новые наборы, и просматривать текущие или сохраненные данные технологического процесса.
Системы оснащены протоколами безопасности, сконфигурированными в соответствии с приложением, которые встроены в релейно-контактную логическую схему, программируемый логический контроллер и программное обеспечение CVDWinPrC™.