Ведущая в отрасли установка PECVD Applied Producer BLOk выполняет плазмохимическое газофазное осаждение (PCEVD) медного барьера с низкой диэлектрической проницаемостью (BLOk) и плёнок для формирования схем металлических межсоединений на пластинах с использованием химико-механической полировки взамен травления металла. Благодаря архитектуре Producer Twin Chamber®, каждая пластина подвергается прямо на месте запатентованному процессу удаления оксида меди, предшествующему осаждению барьера с низкой диэлектрической проницаемостью (BLOk), обеспечивая отличную адгезию для меди или кобальта для снижения электромиграции.

Пленки BLOk позволяют значительно уменьшить емкость ряда диэлектрических пленок, сохраняя при этом превосходную селективность травления и электрические характеристики для непрерывной пропорциональной резистивно-емкостной миниатюризации. Проверенные процессы подготовки поверхности и запуска формирования слоя позволяют технологии BLOk легко интегрироваться с Black Diamond, обеспечивая плавный переход на поколение 45-нм и выше.

На высоконадёжной, проверенный в производственных условиях платформе Producer с высокой пропускной способностью, можно обрабатывать одновременно до шести пластин для значительного снижения затрат. Возможности расширения позволяют пользователям использовать технические средства Producer для множественной обработки компонентов.