Установка для создания усовершенствованных плёнок для формирования рельефа (APF) и плазмохимического газофазного осаждения (PECVD) осуществляет изготовление линейки удаляемых некристаллических углеродных твердых маскирующих плёнок для важнейших этапов формирования рельефа. 

 

Данная установка впервые в отрасли позволяет изготавливать коммерчески доступную некристаллическую углеродную плёнку путём плазмохимического газофазного осаждения (PECVD), предназначенную для формирования рельефа узкощелевой изоляции (STI), контактных площадок, разрядных линий, контактов, конденсаторов и межсоединений. Данная плёнка является также одной из плёнок, дающих возможность самосовмещённого двойного формирования рельефа ИС для пропорционального уменьшения размеров стандартной фотолитографии с помощью эксимерного лазера (ArF) за пределами ее физических ограничений.

 

По мере увеличения применения APF, данная технология превратилась из технологии создания одной плёнки в линейку специализированных плёнок.

 

Усовершенствованные плёнки для формирования рельефа APF

 

Широко применяемая, как пленка для формирования рельефа для небольших объектов и структур с высоким аспектным отношением (HAR), технология APFобладает превосходной селективностью травления и более низким размытием края изображения (LER), чем при применении традиционного фоторезиста (PR). Благодаря своей PR-подобной пористости его можно легко интегрировать в налаженные уже производственные процессы. Используемые отдельно или в сочетании с пленками DARC (диэлектрическое антибликовое покрытие) AppliedMaterials, данная экономичная пленка обеспечивает высокую селективность травления с использованием поликремния, нитрида кремния и диоксида кремния и низкое размытие края изображения.

 

Усовершенствованные плёнки для формирования рельефа APFe

 

Основанная на технологии APF с высокой селективностью и низким размытием края изображения(LER), технология APFe позволяет наносить более толстые слои, чем APF (например, при формировании конденсаторов и металлических контактов для запоминающих устройств), сохраняя при этом возможность выравнивания, необходимую для травления отверстий.

 

Усовершенствованные плёнки для формирования рельефа APFx

 

Технология APFx расширяет возможности APF для адресного нанесения рельефа металлических соединений и контактов для 5-нм и более. Помимо возможности регулировки выравнивания для фотолитографии, APFx обладает высоким соответствием, благодаря которым улучшается переработка фоторезиста для снижения количества дефектов после формирования рельефа. Плёнка APFx обладает самыми стойкими механическими характеристиками, такими как высокий модуль упругости и твердость при низком напряжении и хорошие адгезионные свойствах, требуемые для целостности объектов при линейном и пространственном формировании рельефа до 3-нм.