Applied Centura Tetra ZPhotomaskEtch – это самая современная установка для травления фотолитографических фотомасок для логических и запоминающих устройств 10-нм и более. Новая установка расширяет возможности ведущей в отрасли платформы Tetra с помощью повышения разрешающей способности и расширенной иммерсионной литографии.

Поскольку полупроводниковая промышленность продолжает расширять границы современных литографических технологий, система Tetra Z является важным инструментом реализации усовершенствованных методов оптической коррекции эффекта близости (OPC), необходимых для травления 10-нм расширенных бинарных и масок со сдвигом фазы (PSM). Установка обеспечивает исключительную точность передачи рисунка на хром, молибденовый оксинитрид кремния (MoSiON), твердую маску и диоксид кремния (плавленый кварц) с помощью элементов управления, которые обеспечивают равномерное линейное прецизионное травление по всем топологическим размерам и плотностям рисунка с практически нулевой дефектностью.

Отличные показатели критических размеров в сочетании с высокой селективностью травления позволяют использовать более тонкие фоторезистивные пленки для получения меньших критических размеров рисунков фотомасок на слоях. Возможность регулировки критических размеров делает установку более гибкой для удовлетворения индивидуальных требований. Уникальная возможность управления глубиной травления диоксида кремния обеспечивает точность фазового угла и дополнительную возможность пропорциональной миниатюризации интегральных схем, предоставляя возможность использования маску со сдвигом фазы (PSM) с чередованием апертур. Эти ключевые достижения обусловлены улучшением конструкции камеры; устойчивостью плазмы; возможностью регулировки ионов, радикалов, потоков газа и давления; мониторинга и контроля процессов в режиме реального времени.

Возможности установки Tetra Z для травления широкого спектра типов масок минимизируют сложности работы с инструментом, время цикла разработки и необходимость в библиотеках процессов и квалифицированной подготовке пользователя.